В Зеленограде построят оборудование для разработки микроэлектроники

 По словам директора ИЯФ СО РАН Павла Логачева, целью является создание отечественной технологической цепочки производства микроэлектроники  НОВОСИБИРСК, 26 декабря. /ТАСС/. Российские физики за три года запустят технологический накопительный комплекс и создадут опытный образец ионного ускорителя для создания микросхем в Зеленограде для разработки отечественной технологической цепочки производства микроэлектроники. Об этом рассказал журналистам директор Института ядерной физики им. Г. И. Будкера (ИЯФ) СО РАН Павел Логачев."Работа, связанная с восстановлением комплекса накопительного ТНК [Технологический накопительный комплекс] в Зеленограде, который будет востребован для разработки отечественной технологической цепочки производства микроэлектроники. Мы ставим задачу создать все необходимые средства разработки, подставить плечо нашим электронным компаниям, государственным институтам для того, чтобы сделать полностью отечественное оборудование для микроэлектроники", - сказал Логачев, уточнив, что комплекс будет запущен через три года.Директор института пояснил, что накопительный комплекс будет основным инструментом для создания, испытания и одалживания технологии так называемых литографов для печати микросхем."Это очень сложные и дорогие устройства, которые делает фактически одна компания в мире. Это машина, которая может участвовать в производстве, но она делается не для производства, делается для разработки литографов. Такие машины есть в мире, и они должны быть в России", - сказал он.Физикам не придется создавать накопительный комплекс с нуля. В 1990-1991 годах в Зеленограде ИЯФ СО РАН создал комплекс, но он не был запущен в связи с распадом Советского Союза. За три года ученые восстановят и запустят установку.Работа ведется по заказу Курчатовского института. Создание ТНК с нуля стоило бы на сегодняшний день порядка 10 млрд рублей, на восстановление потребуется полмиллиарда рублей.Создание имплантора для микроэлектроникиТакже сотрудники ИЯФ СО РАН совместно с учеными Центрального научно-исследовательского института точного машиностроения в Зеленограде приступили к созданию промышленного ускорителя ионов для отечественного имплантора, который с помощью пучков ионов вводит необходимые химические элементы в пластину полупроводника на нужную глубину для созданий микросхем."Один технологический цикл изготовления микросхем на пластину занимает примерно 460 операций и длится несколько месяцев, из них несколько десятков раз нужно делать эту имплантацию", - сказал он.Опытный образец установки будет изготовлен за три года.Финансирование создания отечественной технологии производства микроэлектроники будет осуществляться из разных источников - от Минпромторга РФ, Курчатовского института и правительства Москвы.  (https://nauka.tass.ru/nau...)