Другие новости от Нанометр
Реклама на проекте
Лучевая литография: новый подход
Sunday, 19 September, 00:09,
Нанометр
Группа учёных из США и Китая предложила новый подход к лучевой литографии, который основан н эффекте ближнего поля и позволяет формировать достаточно быстро формировать больший массивы субмикронных объектов за пределами дифракционного предела.
Комментарии (0)